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1.ダイレクト浸炭(真空浸炭)


 ダイレクト浸炭は、ガス浸炭と真空技術を融合させて生まれた全く新しいコンセプトの浸炭法で、環境」に優しく、高品質でしかも操業費が半減致します。本技術は真空(減圧)をキャリアとし、浸炭ガスとして不飽和炭化水素ガスを極々少量使用するだけで浸炭する画期的方法です。

 ガス浸炭は第2次世界大戦前に欧米で実用化された技術で、現在でもその基本となる設備やプロセスはほとんど変わっていない。これに対し第1次世代の真空浸炭は、真空焼入炉に少量の飽和炭化水素(メタン,プロパン,ブタン等)を供給して浸炭する方法である。ガス浸炭の問題点を大幅に改善できる技術として期待されたが、炉内で発生・推積する大量の煤の問題が解決できず普及しなかった。ところが環境問題の高まりにより、エネルギーやガスを大量に消費するガス浸炭の見直しが強く求められている。
 そこで、ポストガス浸炭を目指して煤の発生が抑えられる第2世代の真空浸炭の開発を行った。

2.内容

 ダイレクト浸炭は、第1世代の真空浸炭技術に革命的ともいえる3つの技術を加えている。
第1は、浸炭ガスとしてアセチレンガス(不飽和炭化水素)を採用し、炉内に低い圧力でパルス状に供給し煤の発生を抑える技術である。第2は、真空炉のようなコールドウォール型ではなく、ガス浸炭炉のようなホットウォール型炉体構造の採用である。第3は、炉内に雰囲気撹拌装置を取付て、対流加熱や対流降温を可能にし、雰囲気炉としても使用できるようにしたことである。これ等により、ダイレクト浸炭は真空浸炭,真空浸炭窒化,窒素固溶焼入れ(N-クエンチ),光輝焼入れ等の処理が可能で、オプションを追加することによりガス窒化,ガス軟窒化も可能になる。


写真―1 ダイレクト浸炭炉外観



3.特徴


(1) 粒界酸化(表層の合金成分の酸化)がありません。
(2) 細孔の浸炭が可能です。
(3) 高濃度浸炭可能です。
(4) 極浅浸炭(30〜50μm)可能です。
(5) 減圧焼入が可能です。
(6) 仕上肌が良好です。
(7) スーティング(煤の析出)致しません。
(8) CO2を排出致しません。
(9) 加工工場へのインライン化が可能です。
(10) 無人操業可能です。



4.用途


自動車部品(歯車、シャフト等)、二輪車部品、建設機械部品、編機、OA機器、家電部品等々。



写真―2ダイレクト浸炭処理部品外観


5.断面組織


写真-3.ガス浸炭の表面組織 写真-4.ダイレクト浸炭の表面組織
 

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