真空技術とアセチレンの活用により 環境に優しく、高品質・高効率を 達成した画期的な真空浸炭法です。
※アセチレンのパルス添加を用いた真空浸炭は弊社の特許技術です。 【公開番号】特開2000-178710(P2000-178710A) 【発明の名称】浸炭および浸炭窒化処理方法